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磁控溅射法的词语属性 拼音c kng jin sh f拼音字母ci kong jian she fa拼音首字母ckjsf 磁控溅射法的百科含义 磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁） 之间施加几百K 直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。

磁控溅射的词语属性 拼音c kng jin sh拼音字母ci kong jian she拼音首字母ckjs 磁控溅射的百科含义 磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力