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刻蚀
激光刻蚀
激光刻蚀的词语属性 拼音j gung k sh拼音字母ji guang ke shi拼音首字母jgks
光刻蚀
光刻蚀的词语属性 拼音gung k sh拼音字母guang ke shi拼音首字母gks 光刻蚀的百科含义 光刻蚀phaloetching用照相制版的方法，将光敏高分子制成一定图形的杭蚀性膜，再用化学或电化学方法进行腐蚀或电镀的过程。如印刷线路铜版的制作。
离子刻蚀
离子刻蚀的词语属性 拼音l z k sh拼音字母li zi ke shi拼音首字母lzks
干法刻蚀
干法刻蚀的词语属性 拼音gn f k sh拼音字母gan fa ke shi拼音首字母gfks 干法刻蚀的百科含义 干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点：一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，根据被刻蚀材料的不同，选择合适
各向异性刻蚀
各向异性刻蚀的词语属性 拼音g xing y xng k sh拼音字母ge xiang yi xing ke shi拼音首字母gxyxks 各向异性刻蚀的百科含义 各向异性刻蚀通常是指不同的结晶学平面呈现出不同的腐蚀速率的刻蚀方法。
各向同性刻蚀
各向同性刻蚀的词语属性 拼音g xing tng xng k sh拼音字母ge xiang tong xing ke shi拼音首字母gxtxks
反应离子刻蚀
反应离子刻蚀的词语属性 拼音fn yng l z k sh拼音字母fan ying li zi ke shi拼音首字母fylzks 反应离子刻蚀的百科含义 反应离子腐蚀技术是一种各向异性很强、选择性高的干法腐蚀技术。它是在真空系统中利用分子气体等离子来进行刻蚀的，利用了离子诱导化学反应来实现各向异性
刻蚀剂
刻蚀剂的词语属性 拼音k sh j拼音字母ke shi ji拼音首字母ksj 刻蚀剂的百科含义 刻蚀剂}trh}nt清除基片上无用的金属化涂层的化学 活J叶溶液。
